德*** IPLAS 微波等離子化學氣相沉積技術(MPCVD), 通過等離子增加前驅體的反應速率,降低反應溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結晶形態(tài)好的高質量硬質薄膜和晶體。 MPCVD是世界公認的制備大尺寸單晶金剛石有效手段。德***iplas公司的 CYRANNUS® 等離子技術解決了傳統(tǒng)等離子技術的局限,可以在10mbar到室壓范圍內激發(fā)高穩(wěn)定度的等離子團,限度的減少了因氣流、氣壓、氣體成分、電壓等因素波動引起的等離子體狀態(tài)的變化,從而確保單晶生長的持續(xù)性,為合成大尺寸單晶金剛石提供有力保證。 化學機理概要: 碳氫化合物:提供沉積材料 氫氣:生成sp3鍵 氧:對石墨相/sp2鍵侵蝕 惰性氣體:緩沖氣體,或生成納米晶體。 適用合成材料: 大尺寸寶石***單晶鉆石 高取向度金剛石晶體 納米結晶金剛石 碳納米管/類金剛石碳(DLC) | 金剛石薄膜 寶石***鉆石 vvs1,~1 carrat, E grade | | 功率:1-2kW, 1-3kW, 3-6kW,1-6kW,5-30kW 等離子團直徑:70mm, 145mm, 250mm, 400mm | | | 其他應用: MPCVD同樣適用于平面基體,或曲面顆粒的其它硬質材料如Al2O3,c-BN的薄膜沉積和晶體合成。德***iplas公司憑借幾十年在等離子技術領域的積累,可以為用戶提供高度定制的設備,滿足用戶不同的應用需要。 |   |