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美國Trion 具有預(yù)真空室的反應(yīng)離子刻蝕機

價  格：詢價

產(chǎn)  地：更新時間：2021-01-19 15:36

品  牌：型  號：Minilock-Phantom III

狀  態(tài)：正常點擊量：1169

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上海非利加實業(yè)有限公司

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美***Trion Technology
反應(yīng)式離子刻蝕系統(tǒng)及沉積系統(tǒng)

Trion始于***九八九年的等離子刻蝕與沉積系統(tǒng)制造商，Trion為化合物半導(dǎo)體、MEMS(微機電系統(tǒng))、光電器件以及其他半導(dǎo)體市場提供多種設(shè)備。我們的產(chǎn)品在業(yè)內(nèi)以系統(tǒng)占地面積*小、成本低而著稱，且設(shè)備及工藝的可靠性和穩(wěn)定性久經(jīng)考驗。從整套的批量生產(chǎn)用設(shè)備，到簡單的實驗室研發(fā)用系統(tǒng)，盡在Trion。 

Trion提供升***及回收方案給現(xiàn)有客戶。

小批量生產(chǎn)用設(shè)備:

沉積 (PECVD)

 

Minilock-Phantom III 具有預(yù)真空室的反應(yīng)離子刻蝕機。適用于單個基片或帶承片盤的基片(3” - 300mm尺寸)，為實驗室和試制線生產(chǎn)環(huán)境提供的刻蝕能力。它也具有多尺寸批量處理(4x3”; 3x4”; 7x2”)。系統(tǒng)有多達七種工藝氣體可以用于刻蝕各種薄膜，如氧化硅、氮化硅、多晶硅、鋁、砷化鎵、鉻、銅、磷化銦和鈦。該反應(yīng)室還可以用于去除光刻膠和有機材料?？蛇x配靜電吸盤(E-chuck)，以便更有效地在刻蝕工藝中讓基片保持冷卻。該E-chuck使用氦壓力控制器，及在基片背面保持***個氦冷卻層，從而達到控制基片溫度的作用。

該設(shè)備可選配***個電感耦合等離子(ICP)源，其使得用戶可以創(chuàng)建高密度等離子，從而提高刻蝕速率和各向異性等刻蝕性能。

 

產(chǎn)品參數(shù)


產(chǎn)品介紹




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