美國(guó)Trion 薄膜沉積系統(tǒng)
價(jià) 格:詢價(jià)
產(chǎn) 地:更新時(shí)間:2021-01-19 15:36
品 牌:型 號(hào):Orion III PECVD
狀 態(tài):正常點(diǎn)擊量:2341
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美***反應(yīng)式離子刻蝕系統(tǒng)及沉積系統(tǒng) |
Trion始于***九八九年的等離子刻蝕與沉積系統(tǒng)制造商,Trion為化合物半導(dǎo)體、MEMS(微機(jī)電系統(tǒng))、光電器件以及其他半導(dǎo)體市場(chǎng)提供多種設(shè)備。我們的產(chǎn)品在業(yè)內(nèi)以系統(tǒng)占地面積*小、成本低而著稱,且設(shè)備及工藝的可靠性和穩(wěn)定性久經(jīng)考驗(yàn)。從整套的批量生產(chǎn)用設(shè)備,到簡(jiǎn)單的實(shí)驗(yàn)室研發(fā)用系統(tǒng),盡在Trion。 Trion提供升***及回收方案給現(xiàn)有客戶。 |
美***Trion Orion III PECVD 薄膜沉積系統(tǒng)
可以在緊湊的平臺(tái)上生產(chǎn)高品質(zhì)的薄膜。獨(dú)特的反應(yīng)器設(shè)計(jì)可以在在極低的功率生產(chǎn)具有優(yōu)異臺(tái)階覆蓋的低應(yīng)力薄膜。該系統(tǒng)可以滿足實(shí)驗(yàn)室和中試生產(chǎn)環(huán)境中的所有安全,設(shè)施和工藝標(biāo)準(zhǔn)要求。
Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)具有許多標(biāo)準(zhǔn)的需求功能,而且是這樣***個(gè)如此合理價(jià)格,這就是為什么許多世界各地的用戶已經(jīng)作出了Trion Orion III PECVD薄膜沉積系統(tǒng)的選擇。
特征:
沉積薄膜:氧化物、氮化物、氧氮化物,非晶硅。
工藝氣體:<20%硅烷、氨氣、正硅酸乙酯、二乙基硅烷、氧化亞氮、氧、氮
應(yīng)用:
MEMS, 固態(tài)照明,失效分析,研發(fā),試驗(yàn)線.