Voyager 新***代電子束光刻系統

高速且價格合理的電子束光刻機實現精確的曝光效果

對于工業(yè)界和學術界所有關注速度和高分辨的電子束曝光應用，我們推薦您選擇VOYAGERTM這款專業(yè)電子束光刻系統。

Raith非常重視這款具有吸引力的在使用壽命期間具有高性價比、新開發(fā)的、創(chuàng)新的eWRITE體系結構。

系統的硬件和軟件被***致設計為自動曝光操作，的高性能圖形發(fā)生器和電子光學系統優(yōu)化設計并協同***致。

系統可實現8英寸樣品的高速曝光。系統的穩(wěn)定性是非常關鍵的指標，可保證大面積均勻曝光。該系統外部采用環(huán)境屏蔽罩，即使在稍差的實驗室環(huán)境下，仍然能確保系統具有非常好的熱穩(wěn)定性，提高系統對外界環(huán)境的容忍度。

超高分辨率曝光系統

00001. 從*初設計到樣品制備完成，實現高速樣品加工，提高產量

00002. 智能設計：設備占地面積小，且集成環(huán)境屏蔽罩

00003. 創(chuàng)新的、未來安全型系統架構

00004. 專業(yè)的電子束曝光系統，可實現每小時1cm2的高速曝光，高性價比

eWrite技術

Raith新推出的eWrite技術結合了專業(yè)電子束光刻的光學系統和創(chuàng)新的圖形發(fā)生器設計，該技術適用于研發(fā)及批量生產的所有工作。

VOYAGER 應用

· HSQ膠上制作亞7nm線條

· SU8膠上制作 1x1 cm² 菲涅爾透鏡，曝光時間為53分鐘，圖為菲涅爾透鏡中心區(qū)域

· PMMA雙層膠上制作150nm T型柵結構

· ZEP520膠上制作 1x1 cm²光柵結構，曝光時間小于2小時

· 高速度模式（40nA束電流下曝光160um大結構）和高分辨模式（0.4nA束電流下曝光10nm細小結構）自動切換

· ZEP520膠上制作光子晶體波導結構

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