德***Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系統(tǒng) 

 

科研/生產(chǎn)兼用 

簡介： 

PhableR 100 紫外光刻機(jī)是***套低成本的光學(xué)曝光系統(tǒng)，但卻能獲得高分辨率的周期性結(jié)構(gòu)。同傳統(tǒng)的紫外曝光機(jī)類似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha公司擁有突破性的PHABLE 曝光技術(shù)，在"PHABLE"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結(jié)果非常均勻，質(zhì)量很 好；在"mask aligner"模式下，能非常輕松地獲得微米尺寸的圖形。

特點(diǎn)：  · 高效的大面積亞微米-納米圖形化設(shè)備 · 操作簡單、工作穩(wěn)定，兼容科研及批量生產(chǎn) · 納米周期性圖案解決方案 優(yōu)勢： · 大面積圖形化設(shè)備：適用4、6、8寸襯底 · 高曝光效率：非步進(jìn)式曝光，無拼接，單次全場曝光實(shí)現(xiàn)整片圖形化 · 高精度：光學(xué)衍射自成像原理，突破傳統(tǒng)曝光精度極限 · 非接觸式曝光 · 設(shè)備沒有景深限制，曝光過程無需對焦 · 雙工作模式（UV375機(jī)型）：高分辨模式（周期性納米-微米結(jié)構(gòu)），***般紫外光刻模式（非周期結(jié)構(gòu)） · 設(shè)備采用通用的商業(yè)光刻膠，根據(jù)客戶的圖形，提供工藝技術(shù)支持。

PhableR 100革新性紫外光刻機(jī)

 

 

 

技術(shù)指標(biāo)： 

光源	UV375nm	DUV266nm	DUV193nm
分辨率	125nm	75nm	62nm
周期范圍	250-3000nm	150-2500nm	125-2000nm
操作方式	手動(dòng)裝片-自動(dòng)曝光
參數(shù)設(shè)置	觸摸屏
基片尺寸	4、6、8英寸（尺寸向下兼容）

PhableR 100 晶圓***光子學(xué)結(jié)構(gòu)的曝光工具 

應(yīng)用： 

· 圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）

· DFB布拉格光柵

· 減反層圖形

· 顯示濾光片Color Filter

· 線柵偏振Wire Grid Polarizer（WGP）

· 光子晶體

· 磁性納米結(jié)構(gòu)

· 太陽能光伏

· 生物傳感器

· AR、VR技術(shù)

 

 

 

 

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