等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)
價(jià) 格:詢價(jià)
產(chǎn) 地:美國(guó)更新時(shí)間:2021-02-26 15:32
品 牌:Nano-Master型 號(hào):
狀 態(tài):正常點(diǎn)擊量:1110
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等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)
美***NANOMASTER公司PECVD(等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類(lèi)金剛石薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等??蛇x用射頻(RF)、空陰極高密度等離子體(HCD)源、感應(yīng)耦合等離子體(ICP)源。該公司采用先進(jìn)技術(shù)和穩(wěn)定可靠的設(shè)計(jì)為您提供多方位的服務(wù)。
產(chǎn)品參數(shù)
等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)
1) 平板尺寸:8”
2) 源直徑:5”或8”
3) 氣體輸入管數(shù)量:4(兩個(gè)反應(yīng)氣,一個(gè)載氣,一個(gè)排空管)
4) 源距平板的距離:2”或者可調(diào)
5) 真空:低于E-7Torr,200L/sec渦輪分子泵及3.5cfm機(jī)械泵組合
6) 最大平板溫度:800℃
7) 射頻電源供應(yīng):600W,13.5MHz
8) 射頻偏壓:300W,13.5MHz
產(chǎn)品型號(hào):
NPE-3000 桌面型PECVD系統(tǒng)
NPE-4000 立式型PECVD系統(tǒng)
產(chǎn)品介紹
等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)
應(yīng)用領(lǐng)域:
1. 等離子誘導(dǎo)表面改性
2. 等離子清洗(NF3)
3. 反應(yīng)離子蝕刻
4. 等離子體聚合
5. PECVD沉積SiO2、Si3N4、類(lèi)金剛石、硬質(zhì)薄膜等