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等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)

價(jià)  格:詢價(jià)

產(chǎn)  地:美國(guó)更新時(shí)間:2021-02-26 15:32

品  牌:Nano-Master型  號(hào):

狀  態(tài):正常點(diǎn)擊量:1110

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上海非利加實(shí)業(yè)有限公司

聯(lián) 系 人: 上海非利加實(shí)業(yè)有限公司

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配送方式: 上海自提或三方快遞

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等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)

美***NANOMASTER公司PECVD(等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、類(lèi)金剛石薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等??蛇x用射頻(RF)、空陰極高密度等離子體(HCD)源、感應(yīng)耦合等離子體(ICP)源。該公司采用先進(jìn)技術(shù)和穩(wěn)定可靠的設(shè)計(jì)為您提供多方位的服務(wù)。



產(chǎn)品參數(shù)

等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)

1)   平板尺寸:8”

2)   源直徑:5”或8”

3)   氣體輸入管數(shù)量:4(兩個(gè)反應(yīng)氣,一個(gè)載氣,一個(gè)排空管)

4)   源距平板的距離:2”或者可調(diào)

5)   真空:低于E-7Torr,200L/sec渦輪分子泵及3.5cfm機(jī)械泵組合

6)   最大平板溫度:800℃

7)   射頻電源供應(yīng):600W,13.5MHz

8)   射頻偏壓:300W,13.5MHz

產(chǎn)品型號(hào):

NPE-3000 桌面型PECVD系統(tǒng)

NPE-4000 立式型PECVD系統(tǒng)


產(chǎn)品介紹

等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)

應(yīng)用領(lǐng)域:

1.        等離子誘導(dǎo)表面改性

2.        等離子清洗(NF3)

3.        反應(yīng)離子蝕刻

4.        等離子體聚合

5.        PECVD沉積SiO2、Si3N4、類(lèi)金剛石、硬質(zhì)薄膜等





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