太赫茲衰減全反射棱鏡 太赫茲棱鏡 高阻硅棱鏡 THz ATR Elements
價(jià) 格:詢價(jià)
產(chǎn) 地:俄羅斯更新時(shí)間:2020-10-30 13:53
品 牌:屹持光電技術(shù)型 號(hào):THz ATR Elements
狀 態(tài):正常點(diǎn)擊量:2455
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太赫茲衰減全反射棱鏡 太赫茲棱鏡 高阻硅棱鏡 THz ATR Elements
產(chǎn)片簡(jiǎn)介
Tydex可以提供以下規(guī)格的太赫茲棱鏡/高阻硅棱鏡:
傳統(tǒng)(直角)太赫茲棱鏡/高阻硅棱鏡。這類產(chǎn)品主要用于光學(xué)設(shè)計(jì)
衰減全反射(ATR)太赫茲棱鏡/高阻硅棱鏡。這類棱鏡用于分析那些難以用常規(guī)透射方法來(lái)分析的材料。
產(chǎn)品參數(shù)
由于某些特殊材料存在菲涅爾反射和對(duì)光的強(qiáng)烈吸收,用吸收光譜來(lái)分析此類材料幾乎是不可能的。對(duì)于這種情況,研究這類吸收材料最適用的方法就是衰減全反射。這個(gè)方法基于此效應(yīng):光在光密介質(zhì)n0和吸收介質(zhì)(有較小的折射率n)界面,以大于全反射臨界角θc=arcsin(n/n0)入射時(shí),反射效率會(huì)因?yàn)橘渴挪ㄅc被測(cè)材料表面等離子體相耦合而衰減。此反射效率依賴于入射角、偏振方向和被測(cè)材料的折射率。正確的選擇棱鏡參數(shù)(尤其是棱鏡角度)會(huì)獲得好的ATR光譜。在THz光譜內(nèi)使用衰減全內(nèi)反射方法可以研究材料在102-104cm-1(1um-100um:沒(méi)引入2π)光譜范圍內(nèi)的吸收效率。
太赫茲棱鏡/高阻硅棱鏡規(guī)格參數(shù)
材料 | 高阻硅 |
尺寸公差,mm | ±0.2 |
角度公差,acr.min | ±30 |
表面平整度,scr(斑)/dig(坑) | 80/50 |
拋光面的表面平整度,Ra | 2.5 |
表面精確度,mm | ±0.01相對(duì)于理想平面 |